覆蓋所有元素，以低檢出限進(jìn)行完整的金屬分析
高光學(xué)分辨率，可控制雜質(zhì)和痕量元素
出色的長(zhǎng)期穩(wěn)定性、精度和準(zhǔn)確性
OE750：分析氣體（鈦中的氫和氧，銅中的氧）
購(gòu)買價(jià)格和運(yùn)行成本合理，性能可與更昂貴的分析儀相提并論
包括全面的金屬數(shù)據(jù)庫(kù)，可快速，輕松地識(shí)別牌號(hào)
可選的進(jìn)料校正軟件可實(shí)現(xiàn)理想過(guò)程控制
與基于云的數(shù)據(jù)管理的連接
光學(xué)系統(tǒng)
LightWing 技術(shù): Paschen-Runge裝置的多CMOS光學(xué)系統(tǒng)和優(yōu)化的像素分辨率
焦距: 400 mm
波長(zhǎng): OE720: 174-670* nm / OE750: 119-670* nm (*按需求可至766 nm)
波長(zhǎng)實(shí)時(shí)校準(zhǔn)
氬氣供應(yīng)
氬氣質(zhì)量: 最低 4.8 (=99.998 % 氬氣) 如果需要進(jìn)行氣體元素分析，則為 5.0 (僅OE750)
輸入壓力: 3 巴
電源
E100 - 240V AC 50/60 Hz
最大功率: 430 W
待機(jī)功率 45 W (光源打開時(shí)功率 : 50 W)
讀出系統(tǒng)
外部計(jì)算機(jī)將微軟Windows界面與新技術(shù)結(jié)合在一起
固態(tài)數(shù)字光源
程序控制的參數(shù)
頻率: 80 - 1000 Hz
電壓: 250 - 500 V
高能預(yù)燃技術(shù) (HEPS)
環(huán)境數(shù)據(jù)
溫度范圍：儲(chǔ)存溫度: -10° 至 +60°C
工作溫度: 0° 至 +40°C
濕度范圍: 10 - 90 % (非冷凝)
過(guò)程的質(zhì)量控制和冶煉的驗(yàn)證：分析模式/牌號(hào)鑒定
為所有相關(guān)的合金、殘留物、處理、痕量元素和雜質(zhì)元素提供較低檢出限
鐵：合金、鑄鐵，氮含量低至10 ppm (僅OE750)
鋁：合金、鑄造合金、鍛造合金……
銅：青銅、黃銅、白銅……
鎳：哈氏合金、Inconel合金、蒙乃爾合金，氮元素低至20 ppm
鈦：純鈦、鈦6-4、鈦8-錳，包括氫、氧、氮等氣體元素 (僅OE750)
鎂、鈷、鉛、錫、鋅合金、焊料及其他
